日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8220是一款高性能的分析儀器,廣泛應用于材料科學、納米技術、半導體電子行業(yè)、生命科學等領域。該設備以其卓越的分辨率和穩(wěn)定性,為用戶提供了超高分辨率的成像能力,同時保持了長時間分析的穩(wěn)定性。
一、日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8220參數(shù)介紹
1、電子槍種類:冷場發(fā)射
2、二次電子圖象分辨率:0.8nm@15kV,1.1nm@1kV
3、放大倍數(shù):20-1000000X
4、加速電壓:0.01-30KV
二、日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8220優(yōu)勢介紹
1、超高分辨率:SU8220在低加速電壓下也能提供高分辨率的圖像,二次電子分辨率可達0.8nm@15kV和1.1nm@1kV,這意味著即使在低電壓下也能獲得清晰的圖像,減少對樣品的損傷。
2、高亮度穩(wěn)定期:利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期,實現(xiàn)了高分辨觀察和分析的兼顧,束流更大更穩(wěn)定。
3、減輕污染的高真空樣品倉:設計有助于減少樣品污染,提高實驗的準確性。
4、多種材料對比度可視化:通過頂部過濾器(選配項)實現(xiàn)多種材料的對比度可視化,增強了對不同材料的觀察能力。
5、低加速電壓下的高襯度背散射信號:有利于分析多相納米材料和介孔材料,使得SU8220在低加速電壓下也能獲得高襯度的背散射信號。
6、先進的自動化功能:EM Flow Creator允許創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動化工作流程,提高了工作效率和圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量、重現(xiàn)性。
7、靈活的用戶界面:原生支持雙顯示器,提供靈活、高效的操作空間,6通道同時顯示與保存,實現(xiàn)快速的多信號觀測與采集。
綜上所述,日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8220以其卓越的性能和多功能性,成為了科研和工業(yè)分析中不可或缺的工具。二手租賃的方式為用戶提供了成本效益高的解決方案,使得更多的研究機構和企業(yè)能夠利用這一先進技術進行高質(zhì)量的研究和分析。
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