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X射線光電子能譜儀的用途有哪些？

X射線光電子能譜儀（XPS）基于光電效應(yīng)，采用X射線激發(fā)被測(cè)樣品表面納米尺度內(nèi)的原子發(fā)射光電子，通過(guò)系統(tǒng)探測(cè)其所發(fā)射光電子的動(dòng)能等信息，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)樣品表面的元素組成及化學(xué)鍵狀態(tài)的定性和定量分析，能進(jìn)行最外層表面區(qū)域的分析，能進(jìn)行除H和He以外所有元素的分析，靈敏度高，具備化學(xué)組成、價(jià)態(tài)、深度剖析及成像、功函數(shù)特性的分析與表征功能。

XPS是當(dāng)代譜學(xué)領(lǐng)域中最活躍的分支之一， 雖然只有十幾年的歷史， 但其發(fā)展速度很快，在電子工業(yè)、 化學(xué)化工、 能源、 冶金、 生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境中得到了廣泛應(yīng)用。 除了可以根據(jù)測(cè)得的電子結(jié)合能確定樣品的化學(xué)成份外， XPS最重要的應(yīng)用在于確定元素的化合狀態(tài)。

XPS主要用途

（ 1） 固體樣品的表面組成分析， 化學(xué)狀態(tài)分析。

（ 2） 元素成分的深度分析（ 角 分辨方式、 氬離子或C60刻蝕方式）。 深度分析適

合研究： 納米薄膜材料， 微電子材料， 催化劑， 摩擦化學(xué)， 高分子材料的表面和界

面研究。

(3) 可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)分析， 分析面積可小至 10 nm。

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