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X射線光電子能譜儀的用途有哪些?

發(fā)布時(shí)間:2022-08-31 點(diǎn)擊次數(shù):1778

X射線光電子能譜儀(XPS)基于光電效應(yīng),采用X射線激發(fā)被測(cè)樣品表面納米尺度內(nèi)的原子發(fā)射光電子,通過(guò)系統(tǒng)探測(cè)其所發(fā)射光電子的動(dòng)能等信息,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)樣品表面的元素組成及化學(xué)鍵狀態(tài)的定性和定量分析,能進(jìn)行最外層表面區(qū)域的分析,能進(jìn)行除H和He以外所有元素的分析,靈敏度高,具備化學(xué)組成、價(jià)態(tài)、深度剖析及成像、功函數(shù)特性的分析與表征功能。

X射線光電子能譜儀

XPS是當(dāng)代譜學(xué)領(lǐng)域中最活躍的分支之一, 雖然只有十幾年的歷史, 但其發(fā)展速度很快,在電子工業(yè)、 化學(xué)化工、 能源、 冶金、 生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境中得到了廣泛應(yīng)用。 除了可以根據(jù)測(cè)得的電子結(jié)合能確定樣品的化學(xué)成份外, XPS最重要的應(yīng)用在于確定元素的化合狀態(tài)。

 

XPS主要用途

1) 固體樣品的表面組成分析, 化學(xué)狀態(tài)分析。

2) 元素成分的深度分析( 角 分辨方式、 氬離子或C60刻蝕方式)。 深度分析適

合研究: 納米薄膜材料, 微電子材料, 催化劑, 摩擦化學(xué), 高分子材料的表面和界

面研究。

(3) 可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)分析, 分析面積可小至 10 nm。

 

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